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碳化硅（SiC）反射鏡是現(xiàn)代高端光學(xué)系統(tǒng)中不可或缺的核心部件

在光學(xué)應(yīng)用中的劇烈溫度變化下也能保持其形狀和光學(xué)精度。高導(dǎo)熱性和低熱膨脹系數(shù) (CTE) 也使碳化硅鏡能夠快速吸收熱量，減少熱應(yīng)力引起的鏡面變形。

應(yīng)用領(lǐng)域：

天文學(xué)和空間光學(xué)
SiC 光學(xué)鏡具有極低的熱膨脹系數(shù) (CTE) 和熱穩(wěn)定性，在溫度變化下幾乎不變形。典型應(yīng)用包括赫歇爾太空望遠(yuǎn)鏡，該望遠(yuǎn)鏡并非由玻璃制成，而是由燒結(jié)碳化硅制成。

高速激光掃描和加工系統(tǒng)
高速激光掃描系統(tǒng)使用碳化硅制成的鏡面替代玻璃和硅鏡面，與傳統(tǒng)材料相比具有明顯的優(yōu)勢。低密度和高比剛度使 SiC 能夠制造低慣性、快速響應(yīng)的反射器。

研究設(shè)施
在極紫外 (EUV) 光刻機（ASML）中，SiC 作為多層反射器基板（要求表面超光滑）可以有效降低光刻過程中的熱漂移，并提高套刻精度。

本文標(biāo)簽: 碳化硅光學(xué)反射鏡光學(xué)陶瓷結(jié)構(gòu)件

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